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  • 设备名称:PL mapping system
    服务价格:¥200.0 元/小时
    设备型号:PLATOM
    设备描述:适用于测试氮化镓、砷化镓、磷化铟外延薄膜厚度、反射率及wafer BOW量测 查看详情
    设备名称:外延片表面缺陷检测仪
    服务价格:¥300.0 元/小时
    设备型号:Nspec
    设备描述:高端全自动微观检测系统,可应用于材料科学与生命科学; 可适用透明及半透明wafer缺陷检测 整片Mapping并生成报告 查看详情
    设备名称:高真空电子束蒸镀机电化学载流子浓度分析仪
    服务价格:¥100.0 元/小时
    设备型号:ECVpro
    设备描述:IIIV GaAs, GaN, IIVI族, Si及宽带半导体材料浓度纵向分布测试 查看详情
    设备名称:膜厚段差测量仪
    服务价格:¥10.0 元/分钟
    设备型号:Dektak 150
    设备描述:主要应用于薄膜厚度测量、样品表面形貌测量、样品表面粗糙度/波纹度测量等众多领域 查看详情
    设备名称:SEM/EDS
    服务价格:¥200.0 元/小时
    设备型号:S-3400N
    设备描述:广泛应用于材料表面显微分析 查看详情
    设备名称:XRD(X光衍射仪)
    服务价格:¥200.0 元/小时
    设备型号:X'Pert PRO
    设备描述:快速定性、半定量分析多晶材料在常温状态下的结构组成; 小角散射、薄膜厚度、应力分布等分析。 查看详情
    设备名称:PL(荧光光谱量测系统)
    服务价格:¥200.0 元/小时
    设备型号:RPMBlue
    设备描述:适用于测试蓝/绿氮化镓外延薄膜厚度、反射率 查看详情
    设备名称:Hall量测系统
    服务价格:¥100.0 元/小时
    设备型号:HL5500PC
    设备描述:可测试半导体材料及外延层材料电阻系数,载流子浓度及迁移率 应用材料:Si、III-V、II-VI和宽禁带半导体材料 查看详情
    设备名称:PECVD
    服务价格:¥500.0 元/小时
    设备型号:800plus
    设备描述:适用于SiO2,SiNx等材料的高品质镀膜 查看详情
    设备名称:高真空电子束蒸镀机
    服务价格:¥0.0 元/小时
    设备型号:FU-16PEB
    设备描述:适用于金属膜、介质膜高品质蒸镀 查看详情
    设备名称:MOCVD
    服务价格:¥800.0 元/小时
    设备型号:2800G4 HT
    设备描述:适用于化合物半导体外延生长 查看详情
    设备名称:Auto Mask Alinger
    服务价格:¥600.0 元/小时
    设备型号:MA100e
    设备描述:适用于化合物半导体光刻工艺 查看详情
    设备名称:等离子化学气相沉积
    服务价格:¥500.0 元/小时
    设备型号:CC-200Cz
    设备描述:适用于SiO2,SiNx等材料的高品质镀膜 查看详情
    设备名称:干法等离子刻蚀机
    服务价格:¥500.0 元/小时
    设备型号:NE-550EXz
    设备描述:适用于半导体材料、金属材料等的精细刻蚀 2014年73期二肖中特
    设备名称:高真空电子束蒸镀机
    服务价格:¥300.0 元/小时
    设备型号:ei-5z
    设备描述:适用于金属膜、介质膜高品质蒸镀 查看详情
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